Nitrid hafnia; Nitrid hafnia HfN
Vlastnosti: šedý prášek, krychlová struktura krystalů. Teplota tání 3310 ° C, mikrotvrdost 16 GPa. Docela stabilní, ale snadno aqua regia, koncentrovaná kyselina sírová, koroze kyselinou fluorovodíkovou. Vysoká čistota, malá velikost částic, rovnoměrná distribuce, velký specifický povrch, vysoká povrchová aktivita, šedý prášek, krychlová struktura krystalů. Mikrotvrdost 16 GPa.
Vyrábí se přímou reakcí hafnia a dusíku při 900 ° C, nebo reakcí halogenidů hafnia a amoniaku nebo směsí dusíku a vodíku. Slitina hafnia je důležitou složkou žáruvzdorné směsi.
Aplikace produktu:
Nitrid hafnia má vynikající mechanické, elektrické, optické, vysokoteplotní a korozní vlastnosti a má velmi důležité aplikace v oblasti mechanické výroby a mikroelektroniky. Nanometr nitridu hafnia může být široce používán v polovodičových, fotoelektrických a obráběcích polích. Vzhledem k integraci řady vynikajících mechanických, tepelných, optických a korozních charakteristik odolnosti proti opotřebení se očekává, že se nanometrický film nitridu hafnia stane účinným optickým antireflexním ochranným nátěrovým materiálem, který lze použít v klíčových optických zařízeních pro letectví. HfN je nový typ tvrdého materiálu s vysokou teplotou tání, vysokou tvrdostí, odolností proti opotřebení a odolností proti oxidaci. Může být použit jako ochranná vrstva pro technická a dekorativní pole, otěruvzdorný vnější film pro řezné nástroje, chemicky inertní film a ochranný film odolný vůči vysokým teplotám.